Wang, Guilei (Autor)
Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
Beschreibung
Produktdetails
| ISBN/GTIN | 978-981-15-0046-6 |
|---|---|
| Seitenzahl | 115 S. |
| Kopierschutz | mit Wasserzeichen |
| Dateigröße | 6563 Kbytes |