Posseme, Nicolas (Hrsg.)
Plasma Etching Processes for CMOS Devices Realization
Beschreibung
Produktdetails
| ISBN/GTIN | 978-0-08-101196-6 |
|---|---|
| Seitenzahl | 136 S. |
| Kopierschutz | Digital Rights Management |
| Dateigröße | 9379 Kbytes |