Posseme, Nicolas (Hrsg.)
Plasma Etching Processes for Interconnect Realization in VLSI
Beschreibung
Produktdetails
| ISBN/GTIN | 978-0-08-100590-3 |
|---|---|
| Seitenzahl | 128 S. |
| Kopierschutz | Digital Rights Management |
| Dateigröße | 8281 Kbytes |