Punchi Hewage, Nishantha Sampath (Autor)
Promoting a Second-Tier Protection Regime for Innovation of Small and Medium-Sized Enterprises in South Asia
The Case of Sri Lanka
Beschreibung
Der Begriff des Gebrauchsmusters ist in Sri Lanka und in anderen Teilen Südasiens eine noch weitgehend unerforschte Option, um einen Anreiz für Innovationen von KMU zu schaffen.
Der Autor untersucht, ob diese Länder von einer Second-Tier-Patent (STP) Regelung, die auf die spezifischen Merkmale der Innovationslandschaft des Landes zugeschnitten ist, profitieren könnten.
Der Autor untersucht, ob diese Länder von einer Second-Tier-Patent (STP) Regelung, die auf die spezifischen Merkmale der Innovationslandschaft des Landes zugeschnitten ist, profitieren könnten.
Produktdetails
| ISBN/GTIN | 978-3-8452-5950-5 |
|---|---|
| Seitenzahl | 332 S. |
| Kopierschutz | mit Wasserzeichen |
| Dateigröße | 3913 Kbytes |